Design for Manufacturability with Advanced Lithography
| Autor: | Pan, David Z. Yu, Bei |
|---|---|
| EAN: | 9783319203843 |
| Auflage: | 001 |
| Sachgruppe: | Technik |
| Sprache: | Englisch |
| Seitenzahl: | 176 |
| Produktart: | Gebunden |
| Veröffentlichungsdatum: | 23.11.2015 |
| Schlagworte: | Elektronik / Mikroelektronik Mikroelektronik |
53,49 €*
Die Verfügbarkeit wird nach ihrer Bestellung bei uns geprüft.
Bücher sind in der Regel innerhalb von 1-2 Werktagen abholbereit.
Enables readers to tackle the challenge of layout decompositions for different patterning techniquesPresents a coherent framework, including standard cell compliance and detailed placement, to enable Triple Patterning Lithography (TPL) friendly designIncludes coverage of the design for manufacturability with E-Beam lithography
Verwandte Artikel
Weitere Produkte vom selben Autor