Design for Manufacturability with Advanced Lithography
| Autor: | Pan, David Z. Yu, Bei |
|---|---|
| EAN: | 9783319373935 |
| Sachgruppe: | Technik |
| Sprache: | Englisch |
| Seitenzahl: | 176 |
| Produktart: | Kartoniert / Broschiert |
| Veröffentlichungsdatum: | 23.08.2016 |
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Enables readers to tackle the challenge of layout decompositions for different patterning techniques Presents a coherent framework, including standard cell compliance and detailed placement, to enable Triple Patterning Lithography (TPL) friendly design Includes coverage of the design for manufacturability with E-Beam lithography
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